Bis(trimethylsilyl)amine
| |||
Nama | |||
---|---|---|---|
Nama IUPAC Bis(trimethylsilyl)amine | |||
Nama lain Hexamethyldisilazane 1,1,1,3,3,3-Hexamethyldisilazane | |||
Pengecam | |||
No. Pendaftaran CAS |
| ||
Imej model 3D Jmol |
| ||
Singkatan | HMDS | ||
Rujukan Beilstein | 635752 | ||
ChemSpider |
| ||
ECHA InfoCard | 100.012.425 | ||
Nombor EC |
| ||
MeSH | Hexamethylsilazane | ||
PubChem CID |
| ||
Nombor RTECS |
| ||
Nombor PBB | 2924, 3286 | ||
CompTox Dashboard (EPA) |
| ||
InChI
| |||
SMILES
| |||
Sifat | |||
Formula kimia | C6H19NSi2 | ||
Jisim molar | 161.40 g·mol−1 | ||
Ketumpatan | 0.77 g cm-3 | ||
Takat lebur | −78 °C (−108 °F; 195 K) | ||
Takat didih | 126 °C (259 °F; 399 K) | ||
Bahaya | |||
NFPA 704 (berlian api) | 3 3 1 | ||
Kecuali jika dinyatakan sebaliknya, data diberikan untuk bahan-bahan dalam keadaan piawainya (pada 25 °C [77 °F], 100 kPa). | |||
Y pengesahan (apa yang perlu: Y/N?) | |||
Rujukan kotak info | |||
Bis(trimethylsilyl)amine (juga dikenali sebagai hexamethyldisilazane, atau HMDS) adalah kompaun organosilikon dengan formula molekul formula [(CH3)3Si]2NH. Molekul ini adalah terbitan ammonia dengan kumpulan trimethylsilyl menggantikan dua atom hidrogen. Ia merupakan cecair tidak berwarna,reagen dan juga pendahulu kepada base yang popular dalam sintesis organik dan kimia organo-logam.
Dalam proses photolithography, HMDS biasanya digunakan untuk menggalakkan pelekatan photoresist sebelum photoresist digunakan ke atas bahan semikonduktor.
- l
- b
- s
Jika anda melihat rencana yang menggunakan templat {{tunas}} ini, gantikanlah dengan templat tunas yang lebih spesifik.